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日本专家提醒:中国半导体技术落后对手7、8年

2022-09-25| 发布者: 东陵新媒体| 查看: 144| 评论: 3|来源:互联网

摘要: 近日,曾于2019至2021年担任中国紫光集团高级副总裁的坂本幸雄接受日经中文网访问。在被问到中国与世界顶尖水...

近日,曾于2019至2021年担任中国紫光集团高级副总裁的坂本幸雄接受日经中文网访问。

在被问到中国与世界顶尖水平的差距有多大,他指出:

中国长鑫存储技术(CXMT)在DRAM领域较三星落后4倍左右。

而NAND记忆卡领域,据称中国顶尖的长江存储科技(YMTC)将启动储存元件为128层的量产,虽启动192层的试生产,但制造的数量过少,还不到谈论竞争力的水平。

另外,在运算用逻辑芯片领域,中芯国际产品的最细电路线宽还只是14纳米,这已是7、8年前的技术。

由于美国的制裁,中芯尚难引进尖端的生产设备,无法涉足高价值的处理器尖端领域。

经营资源完全被用在增加14纳米以上的产能,如果缺乏在3、4年后追上台积电等龙头企业的决心,差距会不断扩大。

他表示,中国半导体生产达全世界15%。不过,其中英特尔等外资企业占6成,中国企业仅占4成。

此外,目前协助中国半导体产业发展的一般都不是中国内地的人才。

相比于台积电和三星电子,中国缺乏从零开始创造价值的研发经验和耐心。

希望国产芯片加油!


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